陶瓷加熱器廠家技術設計原則是什么？

　　在評論陶瓷加熱器系統(tǒng)的質量時，主要取決于整個加熱操作是否以輻射加熱為主要方式，以傳導對流加熱為輔。輻射加熱比例越大，系統(tǒng)性能越好。

　　通過陶瓷加熱器對大量烘箱和烘箱熱能轉換效率的測量和理論研究。20世紀80年代中期，提出了兩種識別輻射干燥通道的方法:①測定干燥道內空間溫度、部件表面溫度，只有t空間②改流水作業(yè)為靜態(tài)烘烤，如果沒有涂膜不均勻，可以稱為放射線烘烤道。否則，不能稱為遠紅外加熱。

　　在歷經多年的研究、實踐探討過程后，研究人員總結出遠紅外烘道，烘箱的以下3條設計原則：

       ①均勻放射場設計:保證陶瓷加熱器工件在任何位置，表面接受的放射能均勻。均勻輻射場設計是利用輻射光學原理計算一組數據，即組件排列方法、組件間隔、反射罩形式、組件與工件之間的距離。從而擺脫元件間隔100mm至350mm，元件與工件距離50mm至400mm的定性設計。

　　②均勻勻溫度場設計：為避免烘道內均勻溫度場被破壞，應讓烘道內的所有溫度差都保持在±5～10℃范圍內。

　　③均勻控溫技術設計：采用通斷式控溫而導致陶瓷加熱器局部溫度波動大。晶閘管調壓可降低元件的輻射，增加對流作用。因此應采用調功器控溫，進而讓遠紅外技術達到理想狀態(tài)。